Descripción:
El
sistema EVG620 es una herramienta de doble uso diseñada para realizar procesos
de fotolitografía de doble cara, así como procesos de litografía por
nanoimpresión NIL (Nanoimprint Litography).
Descripción:
El
escáner de microarreglos
mide la
intensidad de fluorescencia de los ácidos nucleicos (ADN o ARN) marcados que se
unen al microarreglo.
Cada
microarreglo
es escaneado en minutos y genera archivos con la información obtenida.
Descripción:
El
Sputtering
es una técnica versátil que permite depositar películas delgadas (nanométricas)
de
cualquier tipo de material ya sea conductor o no conductor. En este proceso se
pulverizan los átomos de
un material sólido (blanco-cátodo)
mediante el bombardeo de iones provenientes de
un plasma
creado a partir de Argón. Las
partículas
pulverizadas
del blanco se depositan sobre
un
sustrato (ánodo)
generalmente de silicio o vidrio.
Descripción:
El
RIE es una técnica de ataque en seco que combina efectos físicos y químicos
para remover materiales semiconductores y materiales depositados en la
superficie de substratos mediante la
generación de un plasma a partir de gases.
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